真空磁控溅射技术是?

真空磁控溅射技术是一种利用磁场控制电离气体，让材料原子沉积在工件表面的方法。设备里有阴极靶材和氩气，通电后产生等离子体，靶材原子被溅射出来，均匀覆盖在基片上。这种技术能镀膜厚度精确到纳米级，适合金属、陶瓷等多种材料。

镀层致密、附着力强，广泛用于半导体、光学镜片和工具涂层。生产效率高，每小时可处理数十片基片，成本比传统方法低30%左右。操作时需保持真空环境，避免杂质影响膜层质量。这项技术让产品更耐用、性能更稳定，比如手机摄像头镜片用它镀膜后防刮擦能力提升5倍。