光刻机美国有多少专利?

美国在光刻机领域拥有超过1万项专利，涵盖光源系统、精密镜头、工件台控制等核心技术。荷兰ASML公司依赖美国专利技术，其EUV光刻机涉及美国加州大学研发的极紫外光源，以及麻省理工设计的反射镜涂层。日本尼康的光刻机也采用美国专利的激光干涉仪技术。

中国上海微电子的28纳米光刻机使用美国授权的浸没式系统专利。德国蔡司的物镜镜头包含美国专利的纳米级抛光工艺。英特尔、台积电等芯片厂的光刻设备维护需支付美国专利许可费，每台设备每年约50万美元。美国通过专利联盟控制全球90%以上高端光刻机供应链，限制技术外流。