光刻胶是什么?

光刻胶是一种感光材料，用于半导体制造和微电子工艺。它涂在硅片表面，通过紫外线或电子束曝光，形成电路图案。比如，手机芯片、电脑CPU的生产都离不开它。光刻胶分正性和负性两种：正性胶曝光后溶解，负性胶曝光后硬化。

工艺中，光刻胶需要精确控制厚度和均匀性，误差不能超过几纳米。没有它，芯片上的细小线路无法刻画。光刻胶质量直接影响芯片性能，比如速度和功耗。全球每年消耗数万吨，主要供应商有日本和美国企业。随着芯片制程突破3纳米，光刻胶技术要求越来越高。