光刻机最先出自哪个国家?

光刻机最早出现在荷兰。1965年，荷兰飞利浦公司研发出首台商用光刻机，用于生产集成电路。这台设备采用汞灯光源，精度约1微米。1970年代，美国GCA公司推出步进式光刻机，但荷兰ASML后来居上。1984年，ASML成立初期就聚焦光刻技术，1990年代推出首款浸润式光刻机，将精度提升到90纳米。

如今ASML的EUV光刻机精度达3纳米，全球每10台高端光刻机中有9台来自荷兰。日本尼康和佳能也曾参与竞争，但荷兰凭借技术创新持续领先。光刻机的发展离不开德国蔡司的镜头技术，这种国际合作进一步巩固了荷兰的地位。